美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研发一种基于铥元素的拍瓦（petawatt）级激光技术，该技术有望取代当前极紫外光刻（EUV）工具中使用的二氧化碳 激光器 ，并将光源效率提升约十倍。这一突破可能为新一代“超越 EUV”的光刻系统铺平道路，从而以更快的速度和更低的能耗制造芯片。

IT之家 12 月 31 日消息，韩媒 ChusunBiz 今日表示，三星电子正对下代 2nm 先进制程进行量产测试。报道指与上代开发进程十分坎坷的 3nm 相比，2nm 制程的初始良率超出了预期。 三星电子从本季度开始将 2nm ...

近日，来自韩国的消息传来，三星电子在2nm制程的量产测试中表现优秀，良率远超预期。这一进展无疑是给巨头们带来了福音，相较于3nm制程的开发挫折，2nm显得顺利得多！从本季度开始，三星已经将2nm制造设备转移至位于韩国京畿道的华城市S3代工生产线，计划在2025年上半年启动试生产，并力争在明年内实现正式上线。 不仅如此，三星电子的美国得州泰勒晶圆厂也将在《CHIPS》法案的支持下，聚焦开发2nm制程 ...