据劳伦斯利弗莫尔国家实验室的研究团队介绍,相比现有EUV光刻系统所采用的CO2激光器,BAT 激光器可以将 EUV能源效率提高约 10 倍。这可能会助力未来“beyond EUV”光刻系统能够生产更小、更强大、制造速度更快、耗电量更少的芯片。