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12月18日，Rapidus宣布其购入的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在位于北海道北部城市千岁的IIM-1工厂交付，并开始安装。这是日本首台用于大规模生产尖端半导体的EUV（极紫外）光刻系统。

Rapidus 再次确认 IIM-1 晶圆厂将于 2025 年 4 月启动试产，且该晶圆厂所有半导体制造设备均将采用“单晶圆工艺”，Rapidus 将在该模式下构建名为 RUMS ...

Rapidus宣布，在其位于日本北海道千岁市的创新集成制造工厂（IIM-1）交付并安装ASML的EUV（极紫外）光刻设备。EUV光刻技术是实现2nm工艺的关键技术之一，为了纪念这一时刻，Rapidus在新千岁机场的Portom会议厅举行了仪式。

IT之家 12 月 19 日消息，日本先进逻辑半导体制造商 Rapidus 宣布，其购入的首台 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻机已于当地时间昨日在其北海道千岁市 IIM-1 晶圆厂完成交付并启动安装。这也是日本境内首次引入量产用 EUV 光刻设备。 Rapidus 首席执行官、日本政府代表、北海道及千岁市地方政府代表、ASML ...