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12月18日,Rapidus宣布其购入的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在位于北海道北部城市千岁的IIM-1工厂交付,并开始安装。这是日本首台用于大规模生产尖端半导体的EUV(极紫外)光刻系统。
Rapidus 再次确认 IIM-1 晶圆厂将于 2025 年 4 月启动试产,且该晶圆厂所有半导体制造设备均将采用“单晶圆工艺”,Rapidus 将在该模式下构建名为 RUMS ...
Rapidus宣布,在其位于日本北海道千岁市的创新集成制造工厂(IIM-1)交付并安装ASML的EUV(极紫外)光刻设备。EUV光刻技术是实现2nm工艺的关键技术之一,为了纪念这一时刻,Rapidus在新千岁机场的Portom会议厅举行了仪式。