ELA基础介绍 - 百度文库
准分子就是一种处于激发态的复合粒子，在标准状态下，即在基态时，它 处于分离状态，而在激发态处于分子状态。. 常见的准分子有：XeF*、KrF*、ArF*、XeCl*、XeBr*. f准分子激光原理、结构及参数. Pumping: e- + Xe→Xe+ + e- + ee- + Xe→Xe*+ ee- + F2→F- …
用于平板显示LTPS制备的ELA光束整形系统 | 激光技术 -- 中国光学 …
The principle of how lens array achieve the uniformity of output laser energy density was described. The structure of typical excimer laser annealing (ELA) line beam shaping system, which included beam expanding unit, beam energy homogenizing unit, projection unit and so on was focused on.
准分子激光退火LTPS ELA process - iqiti.cn
固相晶化（ spc ）法的特点是非晶固体发生晶化的温度低于其熔融后结晶的温度。 主要有三种改进的固相晶化法，即部分掺杂法、采用织构衬底和金属诱导固相晶化（ MISPC ）法。
关于LTPS工艺分类及制作你肯定没有这样去了解过！-OLEDindustry
2017年8月26日 · LTPS 晶化有4 种形式(Table I2) (3) ： • 固相晶化法(SPC：Solid Phase Crystallization), 如LG Display E2。 • 金属诱导横向晶化法(MIC/MILC：Metal Induced(Lateral) Crystallization)。 • 准分子激光退火法(ELA：Excimer Laser Annealing), 如BOE B2、AUO L3D 和L4B、LG DisplayE3 和Samsung Display A1-A4。
ELA前处理方式改善结晶效果的研究 - 百度学术
摘要：. 为了研究ELA前处理方式对结晶效果的影响,调整ELA Pre-clean的参数 (清洗转速、HF-Clean时间、03处理电压),然后进行ELA晶化过程,借助SEM和AFM等手段对结晶后的Poly-Si薄膜微结构进行了分析研究.结果发现:清洗转速对结晶效果影响最大;在一定条件下可生长出晶粒 ...
ELA基础介绍 - 百度文库
ELA工艺测试. fELA简介. 准分子就是一种处于激发态的复合粒子，在标准状态下，即在基态时， 它处于分离状态，而在激发态处于分子状态。. 常见的准分子有：XeF*、KrF*、ArF*、XeCl*、XeBr*. fPulse duration. f准分子光学系统简介 光学系统示意图. f准分子光学系统简介 ...
用金属诱导-准分子激光晶化法制备多晶硅薄膜 - 百度学术
本文提出了一种新的晶化方法——金属诱导准分子激光晶化法 (MI-ELA).这个方法在制备多晶硅 (p-Si)薄膜中包括两上步聚:第一步是用镍金属诱导方法通过热退火形成NiSi<,2>;第二步是再通过ELA方法晶化形成p-Si,通过XRD,Raman与SEM表征,此方法制备的p-Si薄膜比用ELA方法在 ...
知乎盐选 | 2.3 LTPS TFT 技术
激光退火 LTPS 技术是指利用输出功率在 kW 量级的 ELA 激光系统，使用 0.4mm 宽的能量密度分布均匀的长条形高频脉冲窄光束，携带高能量入射到 a-Si 薄膜表面，仅在薄膜表层 100nm 厚的深度产生热能效应，使 a-Si 薄膜在瞬间达到 1000℃ 左右，从而实现 a-Si 向 p-Si 的 ...
准 分子激光晶化(ELC)是生产低温多晶硅(LTPS)显示器最核心的技术,20 世纪90年代的LTPS 生产线产品主要用于手机、数码产品的显示屏。. 随着这一技术的成熟,东芝首先在2001年生产出了14 英寸高分辨率的LTPS液晶显示器,随后,松 下、夏 普、三洋等公司都开始研发LTPS ...
ELA前处理方式改善结晶效果的研究 - 豆丁网
2015年10月27日 · 尤其在AMOLED 的应 用上， 本研究针对 ELA 前处理的 Cleaner 参数改变来找出影响结晶的关键因 素， 结果发现 Cleaner 转速为影响晶粒大小的主要因素，并且晶粒随 Cleaner 转速的增加而增大。